Vákuum krómozott ionsugár DLC
Hagyjon üzenetet
Vákuum krómozott ionsugár DLC
Ionsugár DLC: A széngáz az ionforrásban plazmává ionizálódik, és az elektromágneses tér együttes hatására az ionforrás szénionokat szabadít fel. Az ionsugár energiáját a plazmára adott feszültség beállításával szabályozzák. A szénhidrogén ionok nyalábja a hordozóra irányul, és a lerakódási sebesség arányos az ionáram sűrűségével. A csillagívbevonat ionsugárforrása nagy feszültséget vesz fel, így az ion energiája nagyobb, ami a filmet és a szubsztrátumot jól köti; az ionáram nagyobb, ami gyorsabbá teszi a DLC film lerakódási sebességét. Az ionsugaras technológia fő előnyei az ultravékony és többrétegű struktúrák lerakódása, több angström folyamatvezérlési pontossága, valamint a részecskeszennyeződésből adódó hibák minimalizálása a folyamat során.
Csillagíves bevonat PVD-technológiája vákuumkrómozásban
Továbbfejlesztett magnetron katódos ív: A katódos ívtechnológia célja, hogy a célanyagot alacsony feszültséggel és nagy áramerősséggel ionos állapotba ionizálják vákuumkörülmények között, ezzel befejezve a vékonyfilmes anyagok lerakódását. A továbbfejlesztett magnetron katódos ív az elektromágneses mező kombinált hatását használja fel az ív hatékony szabályozására a célanyag felületén, így az anyag ionizációs sebessége nagyobb és a film teljesítménye jobb.
Szűrő katódos ív: A szűrőkatódos ív (FCA) hatékony elektromágneses szűrőrendszerrel van felszerelve, amely képes kiszűrni az ionforrás által generált plazmában lévő makroszkopikus részecskéket és ionklasztereket. A lerakódott részecskék ionizációs sebessége mágneses szűrés után 100 százalékos, emellett a nagy részecskék kiszűrhetők, így az elkészített film nagyon sűrű, lapos és sima, jó korrózióállóságú, és erős kötőerővel rendelkezik a testhez.
Magnetron porlasztás: Vákuumos környezetben a feszültség és a mágneses tér együttes hatására a célpontot ionizált inert gázionokkal bombázzák, aminek következtében a céltárgy ionok, atomok vagy molekulák formájában kilökődik, és a szubsztrátumon lerakódik. vékonyfilm. Az alkalmazott ionizációs áramforrástól függően vezetőképes és nem vezető anyagok is porlasztásra kerülhetnek célpontként.
www.superbheater.com
